项目概况：

创维半导体设计大厦为深圳特区成立30周年十大产业项目之一，于2010年8月24日奠基，建设周期3年。大厦位于深圳市高新技术园南区核心区域，占地面积17025.5平方米，总建设面积124533.62平方米，计容建筑面积为84931.04平方米，建筑楼高99.8米，长171米；其中东、西座地上24层，地下3层；裙楼连接东、西两座塔楼，地上5层，地下3层；办公标准楼层柱距为8.4米。

写字楼大堂高10米，2-5楼标准层高4.5米， 6-24楼标准层高4米，荷载250KG，标准楼层约1628平方米，使用率70%-80%；商业1楼层高5.7米，2-5楼层高4.5米，荷载350KG。

创维半导体设计大厦大厦外墙采用金属铝板、玻璃幕墙（采用中空玻璃、隔音、隔热性能至佳）。停车位726个。

项目问题：我们成立深圳创维半导体设计大厦清洗小组，分析了项目的情况，楼层高，外墙主要材质为玻璃幕墙和装饰条，清洗难度大。我们分析了大厦的构建情况，作出了清洗计划。

解决方案：因为楼层高，我们采用分段清洗，采用吊板和擦窗机配合操作，外墙主要是玻璃幕布和装饰条，使用中性全能清洁剂能达到很好的清洁作用。

项目结束后，创维大厦的物业表示，以后会长期合作，这是对我们专业的最高认可。